Установки осаждения (PVD, CVD)

Оборудование магнетронного напыления и газохимического осаждения тонких плёнок диэлектриков и металлов на пластинах 100, 150 и 200 мм. Высокая однородность и повторяемость процессов, низкая дефектность. Кассетная загрузка, ионная очистка перед напылением. Возможность интеграции нескольких процессных модулей в кластер.