Установки двухсторонней фотолитографии серии BHS-402/602
Описание
Документы
Установка двухсторонней фотолитографии BHS-402
Установка предназначена для фотолитографических процессов совмещения и экспонирования в производстве оптоэлектронных приборов, силовой электроники, сенсоров, гибридных интегральных схем, СВЧ устройств, МЭМС и в других применениях.
Параметр | Значение |
Максимальный размер подложки | 4” (Ø 100 мм) |
Максимальный размер фотошаблона | 5” (125 x 125 мм) |
Точность совмещения | ± 3 мкм |
Разрешение | 3 мкм (при позитивном фоторезисте)5 мкм (при негативном фоторезисте) |
Установка двухсторонней фотолитографии BHS-602
Установка предназначена для фотолитографических процессов совмещения и экспонирования в производстве оптоэлектронных приборов, силовой электроники, сенсоров, гибридных интегральных схем, СВЧ устройств, МЭМС и в других применениях.
Параметр | Значение |
Максимальный размер подложки | 6” (Ø 150 мм) |
Максимальный размер фотошаблона | 7” (175 x 175 мм) |
Точность совмещения | ± 3 мкм |
Разрешение | 6 мкм (при позитивном фоторезисте толщиной не более 1 мкм) |