Установки фотолитографии серии GHS-406/501
Оставьте заявку, чтобы уточнить стоимость
Под ключ
Пуско-наладка и обучение персонала
Гибкость
Различные условия продаж и поставок под клиента
Консультация
Подберем оборудование под ваши задачи
Гарантия
Гарантийное и пост-гарантийное обслуживание без привлечения производителя
Установка двусторонней фотолитографии GHS-406
Установка предназначена для фотолитографических процессов совмещения и экспонирования в мелко- и среднесерийном производстве интегральных микросхем, дискретных полупроводниковых приборов, светодиодов, силовой электроники и в других применениях.
Установки данной серии обеспечивают как одно- так и двустороннее совмещения для пластин 4” и 6” и экспонирование по одной стороне.
| Параметр | Значение |
| Максимальный размер подложки | 6” (Ø 150 мм) |
| Максимальный размер фотошаблона | 7” (175 x 175 мм) |
| Точность совмещения, верхняя сторона | ± 0.5 мкм |
| Точность совмещения, нижняя сторона | ± 4 мкм |
| Разрешение | 1.5 мкм (при вакуумном контакте) |
Установка фотолитографии GHS-501
Установка предназначена для фотолитографических процессов совмещения и экспонирования в мелко- и среднесерийном производстве интегральных микросхем, а также в исследовательских разработках.
Достоинствами модели являются простота в работе, высокая стабильность и повторяемость.
| Параметр | Значение |
| Максимальный размер подложки | 5” (Ø 125 мм) |
| Максимальный размер фотошаблона | 6” (150 x 150 мм) |
| Регулируемый зазор между подложкой и фотошаблоном | 0~50 мкм |
| Точность совмещения | ± 1 мкм |
| Разрешение | 1.5 мкм (при позитивном фоторезисте и вакуумном контакте) |
Документы
