Установка осаждения MR SEMI 2000 / 6000 PECVD
Описание
Документы
Применение:
Системы плазмохимического газофазного осаждения с одновременной обработкой нескольких пластин – до 6 шт. Предназначены для серийных производств.
Основные технические характеристики
| Стандартная конфигурация | MR SEMI 2000 PECVD | MR SEMI 6000 PECVD |
| Тип камеры | Загрузка нескольких пластин | |
| Процессы | PECVD | |
| Количество модулей | Процессный модуль — 1 Охлаждение — 1 | Процессный модуль — до 2 Охлаждение — 1 |
| Реакционный источник | Силан / TEOS | |
| Диаметр пластин | 4”, 6”, 8” | |
| Платформа | четырёхугольная | шестиугольная |
| Генератор плазмы | 13,56 МГц, 5000 Вт или 400 кГц, 1000 Вт | |
| Нагрев пластины | Макс. температура 400°С | |
| SMIF | Доступен | |