Оборудование для микроэлектроники

Вакуумные насосы JLG обладают рядом преимуществ, которые делают их популярными в различных отраслях промышленности. Вот некоторые из них: Основные области применения насосов JLG: В быстро развивающемся мире высоких вакуумных технологий все чаще и чаще предъявляются требования к полностью безмасляной откачке. Благодаря отсутствию трения и масла, сухие форвакуумные насосы JLG обеспечивают стабильные характеристики в период всего […]

Данная система очистки газовых потоков построена на основе применения спиральной форсунки с использованием многоступенчатой промывки водой, которая обеспечивает максимальную очистку водорастворимых газов. Основные преимущества Обрабатываемые газы Вид газов Пример Водорастворимые газы Cl2, BCl3, F2, HCl, HBr, NH3 и др. Состав системы Впускной узел (опция)  Функции впускного узла: Распылительная форсунка Функции распылительной форсунки: Промывочная установка Особенности промывочной установки: Система циркуляции воды Особенности […]

Преимущества Технические параметры ВЧ-генераторов плазмы (13,56 МГц) Модель RFP-0313Выходная мощность 300 ВтЧастота 13,56 МГц  ЗаменаENI ACG-3BAE Cesar 133  Модель RFP-0613Выходная мощность 600 ВтЧастота 13,56 МГц  ЗаменаENI ACG-6B, ENI OEM-6B/6AAE Cesar 136, AE RFX600ACOMDEL CX-600AS Модель RFP-1213Выходная мощность 1200 ВтЧастота 13,56 МГц  ЗаменаENI OEM-12B/12AAE Cesar 1312 и другие модели  Модель RFP-0113Выходная мощность 100 ВтЧастота 13,56 МГц    Модель RFP-1013Выходная мощность 1000 ВтЧастота 13,56 МГц  ЗаменаCOMDEL CPS […]

НазначениеВысокоскоростная установка монтажа кристаллов на припой предназначена для производства силовых приборов малой мощности. Система линейного привода используется для монтажной головы, платформы для установки пластины и камеры позиционирования. Основные компоненты системы, такие как расширенная функция распознавания изображений, обеспечивают высокую производительность и надежность. Особенности и преимуществаВысокая производительность: ▪ Прецизионная система подачи материала – возможность работы с широкими […]

Зондовая станция предназначена для анализа и контроля электрических параметров приборов с двух сторон полупроводниковой пластины. В сочетании с контрольно-измерительным прибором, станция позволяет тестировать электрические параметры в автоматическом режиме. Рабочая платформа Параметр Значение Диаметр пластин 4”, 5” Диапазон перемещения X-Y 170 x 240 мм Точность позиционирования X/Y < ±0,01 мм @150 мм Разрешение X/Y 0,001 мм Держатель пластины Параметр Значение Диапазон перемещения по Z […]

Ионный насос — это тип вакуумного насоса, который работает путем распыления металлического геттера. В идеальных условиях ионные насосы способны достигать давления до 10-11 мбар. Ионный насос сначала ионизирует газ внутри объема, к которому он подключен, и использует сильный электрический потенциал, обычно 3-7 кВ, который ускоряет ионы в твердый электрод. Ионные насосы компании SKY специально разработаны и […]

Данная система очистки газовых потоков построена на основе применения комбинации термического и плазменного дожига с душеванием для обеспечения безопасной и эффективной обработки легковоспламеняющихся и взрывоопасных газов (H2/NH3). Основные преимущества Модельный ряд Модель Газы Пример NSGB1.5K/3K Соединения Si SiH4, SiH2Cl2, TEOS NSGW1.5K Водорастворимые газы Cl2, F2, HCl, NH3 NSGC1.5K/3K Горючие газы H2, NH3 Компоновка системы и […]

Турбомолекулярные насосы серии FF, разработанные компанией KYKY для приборостроительной промышленности, представляют собой небольшие высокопроизводительные высоковакуумные насосы со скоростью откачки от 22 л/с до 300 л/с и обладают компактной конструкцией, удобством в использовании и гибкостью при установке. Встроенный контроллер: Компактные турбомолекулярные насосы напрямую приводятся в действие и управляются с помощью встроенного контроллера TD, который удобно интегрировать […]

Криогенный вакуумный насос представляет собой разновидность высоковакуумных насосов, в котором используется принцип криогенной конденсации и криогенной адсорбции. Криогенный вакуумный насос применяется с целью получения как глубокого вакуума от 10-3 Па так и получения сверхвысокого вакуума до 10-9Па и особенно подходит для применений, требующих безмасляной и быстрой откачки. Насосы обеспечивают скорость откачки по воздуху от 1500 л/с […]

Гелиевые масс-спектрометрические течеискатели предназначены для обнаружения утечек и определения герметичности вакуумных камер. Основные режимы работы течеискателей – это работа по методу щупа, работа по вакуумному методу и работа по методу «обратного тока», но при этом течеискатель работает только как анализатор, а проверяемые изделия должны пройти опрессовку гелием заранее. Конструктивно гелиевый течеискатель состоит из масс-спектрометрического анализатора с […]

Модели 120Т/180Т Назначение Установка предназначена для корпусирования интегральных микросхем и дискретных приборов методом заливки пластиком вводных рамок. Основная область применения – небольшие серийные производства и научно-исследовательские разработки. Особенности и преимущества Технические характеристики Обрабатываемые изделия Типы пластиковых корпусов SOD, SMA, SMB, SMC, SOT, SOP,DIP, IPM, LQFP, TSSOP, DFN, QFN и другие Размер выводных рамок Д: 124 — 300 ммШ: 20 — 100 ммТ: 0,1 – 0,6 мм […]

Ручная зондовая станция, отличающаяся надёжностью и удобством. Предназначена для тестирования электрических параметров широкого перечня микроэлектронных устройств. Параметр Значение Диаметр пластин 3”, 4”, 5”, 6”, 8” Диапазон перемещения рабочей платформы X-Y 240 x 260 мм Механизм перемещения рабочей платформы маховик Диапазон перемещения по Z 10 мм  Угол поворота ϴ  ±45° Увеличение  12.5х~3000x Подсветка Оптоволоконный осветитель Загрузка пластины Ручная […]

Автоматическая зондовая станция ZHS-803 Полностью автоматическая зондовая станция, предназначенная для анализа и контроля электрических параметров дискретных приборов и интегральных микросхем. В сочетании с контрольно-измерительным прибором, станция позволяет тестировать электрические параметры и функционирование полупроводниковых кристаллов в автоматическом режиме. Рабочая платформа Параметр Значение Диаметр пластин 6”, 8”  Диапазон перемещения X-Y 270 x 500 мм Точность позиционирования X/Y < ±0.003 мм @200 мм Разрешение X/Y 0.001 […]

Данная система предназначена для очистки легковоспламеняющихся и токсичных газов от ПФУ с помощью плазменного дожига при температуре более 3000℃ и последующей доочистке водой. ОСНОВНЫЕ ПРЕИМУЩЕСТВА ИСТОЧНИК КОНЦЕНТРИРОВАННОЙ ПЛАЗМЫ ОБРАБАТЫВАЕМЫЕ ГАЗЫ Вид газов Пример Соединения Si SiH4, SiH2Cl2, TEOS Водорастворимые газы Cl2, F2, HCl, NH3 Горючие газы H2, NH3 Токсичные газы PH3, BCl3 Фторированные соединения NF3, […]

Данная система очистки газовых потоков построена на основе применения электронагрева (термический дожиг) с душеванием и может обрабатывать легковоспламеняющиеся, токсичные газы, а также газы на основе перфторуглеродов (ПФУ) при температуре выше +800℃. Основные преимущества Обрабатываемые газы Вид газов Пример Соединения Si SiH4, SiH2Cl2, TEOS Горючие газы  H2, NH3 Водорастворимые газы Cl2, F2, HCl Токсичные газы PH3, BCl3 […]

Данная система очистки газовых потоков построена на основе применения сухого плазменного дожига для обеспечения безопасной и эффективной обработки легковоспламеняющихся и взрывоопасных газов с большим коэффициентом расширения (H2/NH3). Основные преимущества Модельный ряд Модель Газы Пример NSGB1.5K/3K Соединения Si SiH4 NSGC1.5K/3K Горючие газы H2, NН3 NSGW1.5K Токсичные газы PH3, CO Компоновка системы и технологическая схема Установка сухого […]