НПК ЭОМС

Данная установка используется в области производства микросхем и полупроводниковых приборов для контроля удельного сопротивления кремниевых пластин, диффузионных слоев, ионно-имплантированных слоев, прозрачных проводящих пленок ITO, металлических пленок и т. д. Это ключевое средство для мониторинга процессов, контроля качества, а также исследований и разработок полупроводниковых устройств. В сочетании с возможностями анализа данных оно удовлетворяет любые требования, начиная […]