Установка осаждения MR SEMI 2000 / 6000 PECVD
Описание
Документы
Применение:
Системы плазмохимического газофазного осаждения с одновременной обработкой нескольких пластин – до 6 шт. Предназначены для серийных производств.
Основные технические характеристики
Стандартная конфигурация | MR SEMI 2000 PECVD | MR SEMI 6000 PECVD |
Тип камеры | Загрузка нескольких пластин | |
Процессы | PECVD | |
Количество модулей | Процессный модуль — 1 Охлаждение — 1 | Процессный модуль — до 2 Охлаждение — 1 |
Реакционный источник | Силан / TEOS | |
Диаметр пластин | 4”, 6”, 8” | |
Платформа | четырёхугольная | шестиугольная |
Генератор плазмы | 13,56 МГц, 5000 Вт или 400 кГц, 1000 Вт | |
Нагрев пластины | Макс. температура 400°С | |
SMIF | Доступен |