Установки фотолитографии серии GHS-401
Описание
Документы
Установка фотолитографии GHS-401-A
Установка предназначена для фотолитографических процессов совмещения и экспонирования в мелко- и среднесерийном производстве интегральных микросхем, а также в исследовательских разработках.
Достоинствами модели являются простота в работе, высокая стабильность и повторяемость.
Параметр | Значение |
Максимальный размер подложки | 4” (Ø 100 мм) |
Максимальный размер фотошаблона | 5” (125 x 125 мм) |
Точность совмещения | ± 1 мкм |
Разрешение | 1.5 мкм (при вакуумном контакте) |
Установка фотолитографии GHS-401-B
Установка предназначена для фотолитографических процессов совмещения и экспонирования в мелко- и среднесерийном производстве интегральных микросхем, а также в исследовательских разработках.
Источником засветки является светодиодная лампа УФ диапазона.
Достоинствами модели являются простота в работе, высокая стабильность и повторяемость.
Параметр | Значение |
Максимальный размер подложки | 4” (Ø 100 мм) |
Максимальный размер фотошаблона | 5” (125 x 125 мм) |
Регулируемый зазор между подложкой и фотошаблоном | 0~50 мкм |
Точность совмещения | ± 1 мкм |
Источник засветки | УФ светодиодная лампа |
Разрешение | 1.5 мкм (при позитивном фоторезисте и вакуумном контакте) |