Установки фотолитографии серии GHS-401
Оставьте заявку, чтобы уточнить стоимость
Под ключ
Пуско-наладка и обучение персонала
Гибкость
Различные условия продаж и поставок под клиента
Консультация
Подберем оборудование под ваши задачи
Гарантия
Гарантийное и пост-гарантийное обслуживание без привлечения производителя
Установка фотолитографии GHS-401-A
Установка предназначена для фотолитографических процессов совмещения и экспонирования в мелко- и среднесерийном производстве интегральных микросхем, а также в исследовательских разработках.
Достоинствами модели являются простота в работе, высокая стабильность и повторяемость.
| Параметр | Значение |
| Максимальный размер подложки | 4” (Ø 100 мм) |
| Максимальный размер фотошаблона | 5” (125 x 125 мм) |
| Точность совмещения | ± 1 мкм |
| Разрешение | 1.5 мкм (при вакуумном контакте) |
Установка фотолитографии GHS-401-B
Установка предназначена для фотолитографических процессов совмещения и экспонирования в мелко- и среднесерийном производстве интегральных микросхем, а также в исследовательских разработках.
Источником засветки является светодиодная лампа УФ диапазона.
Достоинствами модели являются простота в работе, высокая стабильность и повторяемость.
| Параметр | Значение |
| Максимальный размер подложки | 4” (Ø 100 мм) |
| Максимальный размер фотошаблона | 5” (125 x 125 мм) |
| Регулируемый зазор между подложкой и фотошаблоном | 0~50 мкм |
| Точность совмещения | ± 1 мкм |
| Источник засветки | УФ светодиодная лампа |
| Разрешение | 1.5 мкм (при позитивном фоторезисте и вакуумном контакте) |
Документы
